您要查找的是不是:
- The (Pb0.9-xLa0.1Cax)Ti0.975O3(PLCT100x) thin solid films were prepared by Sol-Gel technique. 采用Sol-Gel法制備了(Pb_0.;9-xLa_0
- W. Keppner, R. Wesche, T. Klas, J. Voigt, and G. Schatz, Thin Solid Films 143, (1986) 201. 黃隆瑋,"銀厚膜表面蒸鍍銦、錫后之固液擴散接合研究",中央大學(xué)機械所碩士論文,指導教授:林景崎(1999)。
- A. Piotrowska, E. Kaminska, A. Barcz, and J. Adamczewska, Thin Solid Films, Electronic and Optics, 130, 231 (1985). 李正中,“薄膜光學(xué)與鍍膜技術(shù)”,藝軒圖書(shū)出版社(1999)。
- M. Menning, P. W. Oliveira and H. Schmidt, Thin Solid Films, 351, 99-102 (1999). 劇金蘭,張?chǎng)?趙石林,全國第二屆奈米材料和技術(shù)應用論文集,5,43(2001)。
- M. Menning, P. W. Oliveira, A. Frantzen and H. Schmidt, Thin Solid Films, 351, 225-229 (1999). 羅吉宗,薄膜科技與應用,全華科技圖書(shū)股份有限公司,(2004)。
- Yosi, S. D., Dubin, V. and Angyal, M., “Electroless copper deposition for ULSI,” Thin Solid Films, Vol. 262, pp. 93-103, 1995. “半導體制程技術(shù)導論”,臺灣培生教育出版股份有限公司,美國,第473-474頁(yè),2001
- T. Arai , H. Fujita , M. Watanabe, “Evaluation of adhesion strength of thin hard coatings”, Thin Solid Films, 154 (1987) 391. 吳明勛,“添加銀或鎢對氮化鉻薄膜磨潤性能之影響”,國立成功大學(xué)機械工程學(xué)系,中華民國92年。
- N. Ozer, Optical and electrochemical characteristics of sol-gel deposited tungsten oxide films: a comparison, Thin Solid Films, 304 pp. 310-314 (1997) . 黃獻慶;均勻與組成調制氮化鉭薄膜在銅金屬化的擴散阻礙性質(zhì)評估;逢甲大學(xué)材料科學(xué)與工程研究所碩士論文(2000).
- S.Samukawa, and T.Mukai, “Effects of low-molecular-weight radicals for reduction of microloading in high-aspect contact-hole etching”, Thin Solid Films, 374, 235 (2000). 洪昭南;郭有斌;“以化學(xué)氣相沉積法成長(cháng)半導體薄膜”;化工技術(shù);(2000).
- Nichogi, K., Waragai, K., Taomoto, A., Saito Y., and Asakawa S., “Lead Phthalocyanine Langmuir-Blodgett Films,” Thin Solid Films, Vol. 179, pp. 297-301, April, 1989. 蕭榮華,“真空蒸鍍銅酞花青薄膜及其對二氧化氮氣體感測特性之研究”,碩士論文,國立成功大學(xué)化學(xué)研究所,臺南,第15-16頁(yè),2004。
- Norikazu, K., Yamada, H., Yajima, T. and Sugiyama, K., Surface properties of activated carbon treated by cold plasma heating, Thin Solid Films, Vol.515, pp. 4192-4196, 2007. 黃龍泰,以稻殼和花生殼制備高表面積之活性碳與其應用,國立臺灣科技大學(xué)化學(xué)工程系,碩士論文,2001。
- Katou, K.;Asou, T.;Kurauchi, Y. and Sameshima, R.“Melting Municipal Solid Waste Incineration Residus by Plasma Melting Furnace with a Graphite Electrode” Thin Solid Films, Vol. 386, pp. 183-188, 2001. 何春松,電漿熔融技術(shù)處理焚化爐灰渣之實(shí)例探討,臺灣環(huán)保產(chǎn)業(yè)雙月刊,嘉德技術(shù)開(kāi)發(fā),第十九期,2003。
- Fracture of the Solid Film in Thin Solid Film-Liquid Film-Substrate Structure 固體-液體-基底結構中裂紋形貌形成機制
- A Reflection Interference Method for Determining Optical Constants and Thickness of a Thin Solid Film 反射干涉光譜法測量固體薄膜的光學(xué)常數和厚度
- Hwan-Chul Lee, Jai-Young Lee,Hyo-Jun Ahn, Thin Solid Film,251(1994)。pp136-140 陳家正,“在微小負荷下不銹鋼表面的吸引力和摩擦力之間的關(guān)系”,碩士論文,臺灣大學(xué),2006。
- Adhesion of Dry Solid Film Lubricants, Method of Test for (05. 干式固體薄膜潤滑劑的粘合性的試驗方法(05。
- H. S. Randhawa , M. D. Matthews and R. F. Bunshan, Thin Solid Films, 83(1981) 許國銓;"科技玻璃-高性能透明導電膜玻璃";材料與社會(huì );84期;(82);110-119.
- W. D. Brown, W. W. Grannemann, Thin Solid Films, 51, pp 119-132 (1978 陳力俊主編,微電子材料與制程,中國材料科學(xué)學(xué)會(huì )(1999)
- Thomas W. Mountsier, John A.Samuels, “Precursor Selection for Plasma deposited fluorinated amorphous carbon films”, Thin Solid Film 332, 362(1998 李坤翰,“使用矽烷偶合劑及辛氟甲苯為原料之電漿輔助化學(xué)氣相沉積法制造備低介電膜之研究”,碩士論文,臺灣科技大學(xué)化工系,2006。
- A thin solid electrolyte film of yttria stabilized zirconia with high den s ity, less porosity was fabricated by this method with 54vol%solid content slurr y. 新型陶瓷與精細工藝國家重點(diǎn)實(shí)驗室清華大學(xué)材料科學(xué)與工程系,北京100084;