mask pattern

　
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  • 掩模圖案,點(diǎn)陣結構,晶架

mask pattern的用法和樣例：

例句

  1. The isolation layer and the first auxiliary layer are etched by using the first mask patterns to form second mask patterns.
    通過(guò)使用第一掩模圖案，蝕刻隔離層和第一輔助層以形成第二掩模圖案。

mask pattern的相關(guān)資料：

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