We utilized rapid thermal annealing (RTA) and laser induced annealing (LIA) processes to form nickel silicide and discussed the role of amorphous silicon in annealing process.

 
  • 我們分別利用快速熱退火與雷射引致退火形成矽化鎳并討論非晶矽在退火制程中所扮演的角色。
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