Then calculate the exposure corresponding to the relationships of exposure, ratio of signal to noise, contrast, and performance of resist.

 
  • 同時(shí)模擬樣品模型各臺階的真實(shí)成像條件,測量了各臺階所對應的抗蝕膜顯影速度曲線(xiàn),對顯影條件作了定量分析。
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