The fabrication technology of continuous relief mask for diffractive plane focus lens is studied in the paper.

 
  • 針對目前二元光學(xué)元件掩模制作工藝過(guò)程的諸多不足,對連續型平面衍射聚光透鏡掩模的激光直寫(xiě)制作工藝進(jìn)行了研究。
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