The ZrCl4, HfCl4, and SiCl4 were used as the sol-gel precursors to form the hafnium and zirconium silicate after rapid thermal annealing at high temperature.

 
  • 我們以四氯化鋯、四氯化鉿及四氯化矽為溶膠-凝膠溶液之前驅物,旋轉涂布于晶圓上形成薄膜,經(jīng)高溫退火后形成含有鋯及鉿之金屬矽氧化物。
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