Ta/Tantalum Pentoxide/Ta (MIM) structure was fabricated to investigate the I-V characteristics of tantalum oxide films.

 
  • 氧化鉭薄膜中缺陷的存在和粗糙度增大容易引起漏電流增大,擊穿強度降低。
今日熱詞
目錄 附錄 查詞歷史
国内精品美女A∨在线播放xuan