Nanocrystalline free-standing diamond films were deposited by 30kW DC Arc Plasma Jet CVD method on Molybdenum substrate with mixed fed gasses of Argon, Hydrogen and Methane.

　
英 美
  • 在30kW級DC Arc Plasma Jet CVD(直流電弧等離子體噴射化學(xué)氣相沉積)設備上,采用Ar-H2-CH4混合氣體,在Mo的襯底上沉積出納米金剛石自支撐膜。
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