KEYWORDS : GIMS, ion source, anode layer, sputtering, TiN, ion plating, medium frequency, pulsed DC.

　
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  • 中文關(guān)鍵詞：氣離濺射、離子源、陽(yáng)極層流、濺射、氮化鈦、離子鍍膜、中頻、脈沖直流。
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