In this paper, preparing nanocrystalline carbon nitride thin films has been investigated by using Arc Discharge and dc Hollow Cathode Discharge (HCD).

 
  • 本文主要論述了采用弧光放電(Arc Discharge)和直流空心陰極放電(DC Hollow Cathode Discharge)兩種方法來(lái)制備納米陶瓷氮化碳薄膜。
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