In the measurement with duration of 6 hours, the hydration depth of a PECVD SiO2 layer was about 500?? and the maximum gate voltage drift of a PECVD SiO2-gate ISFET was 81mV.

 
  • 六小時(shí)的量測結果顯示,電漿輔助化學(xué)氣象沈積的二氧化矽材料層的水合深度大約是500埃,并且最大的閘極電壓飄移是81毫伏。
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