In early IC fabrication practice, etch bias was usually dealt with by introducing an appropriate amount of compensation in the masking layer.

 
  • 在早期的集成電路制作實(shí)踐中,刻蝕偏差通常是通過(guò)在掩膜層上引入一個(gè)適量的修正來(lái)處理的。
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