Firstly, the effects of the working pressure, the rotating speed of the wafer, and the diamond millstone on the removing rate of silicon wafer are investigated.

 
  • 在本研究中,首先探討加工壓力、晶圓轉速以及磨盤(pán)轉速等加工參數對矽晶圓移除速率的影響。
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