Chemical vapor deposition of hard diamond-like carbon (DLC) films was achieved using an inductively coupled plasma source (ICPS).

　
英 美
  • 本文采用感應耦合等離子體源(ICPS)成功地實(shí)現化學(xué)氣相沉積硬質(zhì)類(lèi)金剛石(DLC)膜,并考察了基片負偏壓對類(lèi)金剛石膜沉積過(guò)程和薄膜性質(zhì)的影響。
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