By appropriate annealing prior to irradiation, we can obtain an enhanced exchange field and an almost unchanged GMR to solve the problem of interface intermixing.

　
英 美
  • 為了解決界面處因離子布植而產(chǎn)生的問(wèn)題，我們利用先加以熱處理再進(jìn)行碳離子布植的制程，成功地抑制巨磁阻的減少，同時(shí)仍然保有因布植而產(chǎn)生增加交換場(chǎng)之效果。
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