Because of high density,high ionization,low pressure and small damage,ECR plasma can bewidely used in RIE,Plasma CVD and Sputtering.

　
英 美
  • 由于ECR微波等離子體技術(shù)具有密度高、電離度大、工作氣壓低、表面損傷小等特點(diǎn)，在反應離子刻蝕（RIE）、等離子體化學(xué)氣相淀積（CVD）和濺射方面具有廣闊的應用前景。
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